半導体製造全盛の時代に表面分析の必要性は非常に高くなっています。半導体製造各プロセスにおける表面状態の測定や電子状態の測定はプロセスのダメージ評価として有用であり、プロセス開発の段階では処理前、処理後でどの様な変化が起こったか正確に測定することは改良、新たな手法の発見に欠かせない事です。その他にも金属機械加工では、加工表面の状態の測定などに表面分析は多く使われていますし、様々な製品の破壊原因の解明にも使われることが多くなってきています。

工業技術的必要性以外でも、半導体、金属表面などにおける光化学反応や物性研究は非常に複雑で面白く、科学の分野でも注目を集めています。

また、環境科学の分野でも、氷の表面での光化学反応は成層圏の化学反応を考える上で重要であることが近年認識されはじめ、それらについての研究も始まっています。

この表面化学における表面分析の解説や最近の動向について紹介して行きたいと思います。